첨단기술정보 조별해결해야할문제 발표計劃書
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작성일 22-11-19 00:12
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다시 말하면 기존의 제조 패러다임에 적합한 방식이라는 뜻이다. 첫 번째는 기존의 반도체 집적 기술의 연장선상에서 생각하는 것으로, 즉 박막을 증착하고, 리소그래피 패터닝과 에칭을 통하여 피처를 정의(定義)하는 방식, 즉 벌크 또는 박막의 재료에서 스타트하여 미세한 구조를 형성하여 가는 위에서 아래로의 접근 방식이다.AIPEL , 첨단기술정보 조별과제 발표계획서공학기술레포트 ,
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AIPEL
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레포트/공학기술
다.첨단기술정보인 신 concept(개념) 나노기술 Atomic Image Projection Electron-beam Lithography을 analysis한 자료(data)로 한글파일과 파워포인트 자료(data)를 함께 첨부하였습니다. 이 방법은 기존의 반도체 집적 공정에 통상적으로 사용되어온 것으로서, 이미 그 체계가 확실하게 잡혀 있는 기술이다. 이 기술은 앞에서도 밝힌 것과 같이 이미 100nm급의 피처 크기를 정의(定義)할 수 있는 수준에 있고 앞으로 계속 발전하여 30nm급의 피처를 정의(定義)할 수 있는 기술로 발전할 것으로 본다.
설명
나노 기술을 구현하는 공정 기술은 크게 두 가지의 방법으로 나뉜다. 다만, 위에서 아래로의…(drop)
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첨단기술정보인 신 개념 나노기술 Atomic Image Projection Electron-beam Lithography을 분석한 자료로 한글파일과 파워포인트 자료를 함께 첨부하였습니다.
