금속과 표면공학 - PVD에 상대하여
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작성일 23-02-07 20:38
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모재에 코팅
1. 서론
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2.1 PVD 란?
2.3 PVD 개요
10. 최근 연구 동향
3. PVD 종류
순서
9. 제조공정
7. PVD 코팅층의 미세구조
균일한 코팅 두께를 형성하기 위하여 코팅 공정 시 여러 축에 치구된 제품들은 일정한 속도로 회전
섭씨 150-500도 사이의 고 진공 상태에서 진행
6. 박막 성장 기구
2.4 PVD 영상
설명
2.1 PVD 원리
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3.1 PVD 종류
1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란? 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된 스퍼터링 4. PVD 장비 5. 진공의 필요성 6. 박막 성장 기구 7. PVD 코팅층의 미세구조 8. PVD 적용 예 9. 제조공정 10. 최근 연구 동향
8. PVD 적용 예
금속과 표면공학 - PVD에 상대하여
금속과 표면공학,PVD
2.5 PVD 장·단점
왜 이런 방식의 코팅을 하느냐?
3.4 스퍼터링
5. 진공의 필요성
이런 시계와 같은 경우 일반적인 코팅 (도장 따위의..)으론 감당이 안되기 때문에
3.2 증발 (아크증발법)
유입된 reaction 가스는 기상 상태의 금속과 reaction 하여 화합물을 형성하여 공구 또는 부품의 표면에 강한 밀착력을 가진 박막을 형성
고 순도 금속 코팅 재료는 열에 의한 기화 또는 이온 충격으로 기화되어
4. PVD 장비
3.4.1 강화된 스퍼터링
심미성을 추가한 내마모성, 내소착성, 내식성, 내산화성을 주목하기 위해서!!
2. PVD법
3.3 이온도금 (이온주입법)
다.
